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日本北野精機 KMDW-Cell 二元金屬蒸發源無

日本北野精機 KMDW-Cell 二元金屬蒸發源無

更新日期：2026-05-14

訪問量：18

廠商性質：經銷商

生產地址：日本

簡要描述：
日本北野精機 KMDW-Cell 二元金屬蒸發源無，可獨立控溫實現兩種金屬共蒸鍍，適配半導體、光學薄膜制備等科研場景，結構緊湊，維護便捷，適合實驗室鍍膜工藝研發。

一、產品概述

日本北野精機 KMDW-Cell 二元金屬蒸發源無，是專為超高真空（UHV）鍍膜系統設計的雙坩堝式電阻加熱蒸發源。它通過獨立的加熱回路實現兩種金屬材料的精準控溫與蒸發，可用于制備合金、化合物薄膜，廣泛應用于半導體、光學器件、材料科學等領域的實驗與研發。

二、核心特點

? 二元材料獨立控制，支持共蒸鍍工藝雙坩堝設計，每個坩堝配備獨立的加熱燈絲與控溫電路，可分別調節兩種金屬的蒸發速率，實現精確配比的合金 / 化合物薄膜沉積，滿足科研工藝對材料組分的控制需求。
? 超高真空適配，低污染設計專為 UHV 環境優化，采用低出氣率材料，可在 10??Pa 級高真空條件下穩定工作，減少雜質污染，保障薄膜質量，適配半導體、光學等高潔凈度鍍膜場景。
? 緊湊型法蘭式結構，易集成安裝采用標準真空法蘭接口，體積小巧，占用腔室空間小，可直接安裝在各類小型真空鍍膜設備上，便于集成到現有實驗系統中。
? 可拆卸式坩堝與燈絲，維護便捷坩堝與燈絲組件可拆卸，材料更換、清潔維護操作簡單，適合多批次、多材料的實驗研發，降低實驗成本與維護難度。
? 適配多種低 / 中熔點金屬可對金、銀、鋁、銅、鉻等多種金屬材料進行蒸發，通用性強，滿足不同實驗的材料需求。

三、基礎參數

表格
項目詳情
品牌北野精機（Kitano Seiki，日本）
型號KMDW-Cell
工作原理電阻加熱式蒸發，雙坩堝獨立控溫
適配環境超高真空（UHV）環境
安裝方式標準真空法蘭安裝
適用材料金、銀、鋁、銅、鉻等低 / 中熔點金屬
結構特點可拆卸式坩堝與燈絲組件，維護便捷

四、日本北野精機 KMDW-Cell 二元金屬蒸發源無 適用場景

  • 半導體與微電子工藝：金屬電極、接觸層、阻擋層的蒸鍍制備，實現低電阻率金屬薄膜沉積。

  • 光學薄膜制備：金屬反射膜、吸收膜的制備，適配光學器件、傳感器的鍍膜需求。

  • 材料科學研究：合金薄膜、金屬基復合材料的制備，用于材料性能表征與工藝研究。

  • 基礎物理實驗：超高真空環境下的金屬薄膜生長、表面科學研究，支持多種金屬材料的可控沉積。


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