一、產品概述
日本 KDF-75Plus 桌上型真空氣體置換爐，是專為實驗室與小批量樣品處理設計的小型真空熱處理設備，集成了加熱腔、真空系統與氣體置換單元，可在真空或氮氣、氬氣等惰性氣氛下實現樣品的燒結、退火、回火等工藝，廣泛用于材料科學、電子元件、牙科陶瓷等領域。
二、核心特點
? 臺式小型設計，實驗室場景友好設備體積緊湊，無需專用安裝場地，放置在實驗臺即可使用，適合高校、科研院所的小批量樣品實驗與教學演示。
? 真空 + 氣氛保護雙模式，工藝適配廣內置真空泵，可實現真空環境；同時支持通入惰性氣體形成保護氣氛，防止樣品氧化，適配金屬、陶瓷、粉末材料等多種工藝需求。
? 1100℃高溫 + 程序控溫，工藝穩定性高最高使用溫度可達 1100℃，支持多段程序控溫，可設定升溫、保溫、降溫曲線，保障熱處理工藝的穩定性與重復性。
? 多重安全防護，使用便捷可靠設備配備超溫保護、過流保護、真空異常報警等多重安全功能；操作面板直觀易上手，支持數據記錄，便于實驗過程追溯。
三、基礎參數
| 項目 | 詳情 |
|---|---|
| 品牌 | KDF（日本） |
| 型號 | KDF-75Plus |
| 最高溫度 | 1100℃ |
| 升溫時間 | 室溫→1100℃約 35 分鐘 |
| 爐腔尺寸 | 120×120×120mm |
| 控制方式 | 多段程序控溫 |
| 加熱功率 | 1.8kW |
| 供電方式 | AC100V/200V |
四、日本 KDF-75Plus 桌上型真空氣體置換爐適用場景
金屬、陶瓷、粉末材料的真空燒結、退火、回火處理
電子陶瓷、半導體材料的熱處理工藝
牙科陶瓷、精密金屬零件的燒結與熱處理
高校、科研院所的材料熱處理實驗教學與研究
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